请叫我好姑娘3:美联储称更多美国银行从2024年开始收紧贷款标准

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"请叫我好姑娘3",快科技5月7日消息，今日，vivo正式官宣X100S和X100SPro两款新机将搭载天玑9300+旗舰芯片，于5月13日19:00正式发布。与X100系列相同，vivoX100S和X100SPro将构建蓝晶芯片技术栈，全新的天玑9300+移动平台，继续沿用全大核的CPU架构，主频从前代9300的3.25GHz提升到了3.4GHz，是目前最强大的安卓移动Soc。目前，vivo官方已公布了X100S和X100SPro的渲染图，其中X100S采用直边+直屏的方案，X100SPro则采用曲屏的设计方案，两者在性能方面保持一致，预计在影像方面也会做一些区分。其次，按照vivoX系列的产品迭代风格，vivoX100S预计将不会支持无线充电，而X100SPro将会支持至少50W的无线充电能力。据悉，此次vivoX100S系列发布会，除了X100S和X100SPro这两款新机发布外，还将带来号称“影像灭霸”的超大杯版本，即vivoX100Ultra，敬请期待。【本文结束】如需转载请务必注明出处：快科技责任编辑：无痕

"请叫我好姑娘3",快科技5月7日消息，据媒体报道，SK海力士正在评估东京电子最新的低温蚀刻设备，该设备可以在-70℃的低温下运行，用来生成400层以上堆叠的新型3DNAND。据了解，SK海力士此次并未直接引进设备，而是选择将测试晶圆发送到东京电子的实验室进行评估，以验证--**--快科技5月7日消息，据媒体报道，SK海力士正在评估东京电子最新的低温蚀刻设备，该设备可以在-70℃的低温下运行，用来生成400层以上堆叠的新型3DNAND。据了解，SK海力士此次并未直接引进设备，而是选择将测试晶圆发送到东京电子的实验室进行评估，以验证新设备在生产中的实际表现。这一举措显示了SK海力士在新技术引入上的谨慎态度和对质量的严格把控。与传统的蚀刻工艺相比，东京电子的这款低温蚀刻设备在工作温度上形成了鲜明对比。传统蚀刻工艺通常在0℃到30℃的温度范围内进行，而这款新设备能在-70℃的低温下运行，这样的低温环境为生产更高性能的3DNAND提供了可能。据东京电子提供的论文数据，这款新的蚀刻机能在短短33分钟内完成10微米深的高深度比蚀刻，效率比现有工具高出三倍以上。这一显著的技术进步不仅提高了3DNAND的生产效率，还有望进一步推动闪存技术的发展。目前，SK海力士的321层3DNAND采用了三重堆栈结构。而采用东京电子的新设备后，该公司可能实现以单堆栈或双堆栈的方式构建400层的3DNAND，这将进一步提升生产效率。然而，这一目标的实现还需等待新设备在可靠性及性能一致性方面的进一步验证。值得一提的是，东京电子的这款低温蚀刻设备在环保方面也表现出色。它采用氟化氢（HF）气体作为蚀刻介质，相较于传统系统使用的氟碳化物气体，具有更低的温室效应，为半导体行业的绿色发展提供了有力支持。此外，全球半导体巨头三星也在验证这一新技术。与SK海力士不同，三星选择了直接引进东京电子的新设备进行测试，显示出其对新技术的高度关注和积极态度。【本文结束】如需转载请务必注明出处：快科技责任编辑：鹿角

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作者：崇含蕊

武切维奇出任塞尔维亚新总理

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